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分类：磁控溅射

磁控溅射技术说明

2022-06-15

磁控溅射技术可制备装饰薄膜、硬质薄膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，是一种十分有效的薄膜沉积方法，在各个工业领域应用非常广泛。“溅射”是指具有一定能量的粒子（一般为Ar+离子）轰击固体

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磁控溅射的工作原理及种类

2022-06-13

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积

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磁控溅射设备的镀膜均匀

2022-05-05

磁控溅射设备的镀膜均匀磁控溅射设备技术发展过程中各项技术的突破一般集中在等离子体的产生以及对等离子体进行的控制等方面。通过对电磁场、温度场和空间不同种类粒子分布参数的控制，使膜层质量和属性满足各行业的要求。膜厚均匀性与磁控溅射靶的工作状态息

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磁控溅射设备化学稳定性好

2022-05-05

磁控溅射设备化学稳定性好磁控溅射设备当入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时，不会发作溅射;溅射原子的能量比蒸发原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时，溅射原子角散布就不完整契合余弦散布规律。角散布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的

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磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用

2022-04-13

磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层

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磁控溅射镀膜设备原理及发展起源

2022-04-13

磁控溅射镀膜设备的工作原理要从一开始的“溅射现象”说起。人们由起初发觉“溅射现象”发展至“溅射镀膜”此间历经了相当长的发展时间，溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了。不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究，认为这

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