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分类：磁控溅射

磁控溅射和离子束溅射有何区别和联系？

2024-11-22

磁控溅射和离子束溅射是两种常见的薄膜沉积技术，它们在原理和应用领域上有一些区别和联系。下面将详细介绍这两种技术的区别和联系。原理：磁控溅射是一种利用磁场来加速离子轰击靶材，使靶材材料蒸发并沉积在基底表面上的薄膜沉积技术。磁场会产生一个电子

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磁控溅射与金属喷涂技术的应用对比

2023-08-16

磁控溅射技术和金属喷涂技术都是常见的表面涂层技术，它们在不同的行业和应用中都有广泛的应用。磁控溅射技术是利用磁场和高速离子束将材料喷射到基体表面上，形成涂层；金属喷涂技术则是通过喷枪将熔融的金属喷射到基体表面上，形成涂层。下面将对这两种技术

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磁控溅射如何提升耐腐蚀性能？

2023-06-26

磁控溅射技术是一种常用的表面处理技术，它可以通过在不同物质之间形成化学键来增强材料的耐腐蚀性能。在磁控溅射过程中，原始材料被加热到非常高的温度，并被注入到真空室中。然后将载有化学物质的混合气体注入到真空室中，在高压下使化学物质在溅射靶材表面

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磁控溅射的数值仿真设计

2022-11-21

磁控溅射的数值仿真设计将工程和工艺设计运用计算机模拟，再现溅射沉积过程，并将设计的结果进行显示和分析以优化工程和工艺设计。工程设计可以实现参数化设计：利用已有的商业软件：Pro／E，UG，Ansys等进行二次开发。工艺设计是在自行设计或利用

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磁控溅射的镀膜过程

2022-11-21

磁控溅射的镀膜过程有哪些？气体放电：辉光放电产生等离子体，使工作气体离化，产生阳离子，在电场作用下轰击阴，并伴有二次电子发射等现象出现。对辉光放电等离子体的研究是研究溅射沉积过程的必由之路。溅射碰撞：溅射碰撞一般是研究带电荷能离子与靶材表层

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磁控溅射的镀膜原理

2022-10-28

磁控溅射的镀膜原理磁控溅射镀膜技术分很多种，有直流磁控溅射，中频磁控溅射，射频磁控溅射，镀的基材和膜层不一样，才用的原理不一样，选择的技术有区别。采用中频溅射的优点是可得到光滑致密、膜层硬度高、膜厚可线性长、温升缓和的产品。但要求较高，工作

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磁控溅射与金属喷涂技术的应用对比

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