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分类：电弧熔炼

磁控溅射真空系统的设计

2020-11-09

磁控溅射真空系统的设计真空系统设计是一个相对成熟的设计部分，主要包括下面四个部分：(1)室体结构——由系统工作方式设定其设计形式。真空室可设计为单室，多室和生产线等形式，并可以选择诸如连续、半连续等生产方式。对于生产平板基片的室体来说，应该

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磁控溅射靶的工作状态

2020-11-09

磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一，磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜，在国防和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性，沉积速率，靶材利用率

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磁控溅射的种类有哪些

2020-11-02

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平

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磁控溅射是高速低温溅射技术

2020-11-02

磁控溅射的特点是成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。磁控溅射(magnetron-sputtering)是70年代迅速发展起来的一种“高速低温溅射技术”。磁控溅射是在阴极靶的

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磁控溅射的定义是什么？

2020-10-26

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生

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磁控溅射种类

2020-10-26

磁控溅射种类磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平

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磁控溅射真空系统的设计

磁控溅射靶的工作状态

​磁控溅射的种类有哪些

磁控溅射是高速低温溅射技术

磁控溅射的定义是什么？

磁控溅射种类

磁控溅射的种类有哪些