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电弧熔炼
溅射镀膜机的功能和原理
2021-04-22
溅射镀膜机的基本原理是在电场和交变磁场作用下,在ar-02气体中利用等离子体对目标表面进行加速高能粒子的轰击。能量交换后,目标表面上的原子从原晶格中逸出,转移到基底表面形成薄膜。该溅射机具有成膜速度高、衬底温度低、附着力好等特点,可实现大面
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磁控溅射可以做到绿色环保
2021-04-08
磁控溅射系统设备能够有效的提高产品的质量,特别是使用在一些金属材质上的时候,其不仅能够让其具备绝缘的效果,还能够提水抗腐蚀程度的水平。在目前的市场中磁控溅射系统设备适用于电子、机械、建筑和其他领域的金属及介电涂层市场的很大一部分份额。该设备
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用磁控靶源溅射金属和合金很容易
2021-03-24
用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源
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磁控溅射设备的用途有哪些?
2021-03-17
磁控溅射设备的主要用途(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。(3)在微电子
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磁控溅射镀膜膜厚的均匀设计
2021-03-10
磁控溅射技术发展过程中各项技术的突破一般集中在等离子体的产生以及对等离子体进行的控制等方面。通过对电磁场、温度场和空间不同种类粒子分布参数的控制,使膜层质量和属性满足各行业的要求。膜厚均匀性与磁控溅射靶的工作状态息息相关,如靶的刻蚀状态,靶
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磁控溅射的种类有哪些?
2021-03-04
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜
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