溅射镀膜-沈阳源瑞盛机械制造有限公司

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新材料的开发带动磁控溅射镀膜技术的发展

2020-07-21

近年来，随着新材料的开发，尤其是薄膜材料的发展和应用，带动控溅射沉积技术的飞速发展，在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了控溅射沉积镀膜技术的工艺过程及其发展情况，各种主要磁控溅射镀膜仪的特点，并介绍磁控溅射技术在

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简析磁控溅射的工艺流程

2020-07-21

在磁控溅射过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下：（1）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；（2）抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；（3）加热

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介绍磁控溅射镀膜技术的应用

2020-07-21

磁控溅射镀膜技术主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品来沉积金属或化合物薄膜从而获得光亮、美观、经济的塑料、陶瓷表面金属化制品。装饰、灯具、家具、玩具、工艺美术、装璜等生活领域的制膜技术通常用磁控溅射方法，该方法还应用于军事保护膜、光学产品、

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介绍磁控溅射镀膜系统靶材的主要方法

2020-07-21

由于磁控溅射镀膜系统的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度，以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。实现的途径主要有以下几种：a、靶材设计与改进b、增强磁控溅射阴极的磁场c

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你知道磁控溅射系统的原理是什么？

2020-07-21

磁控溅射系统的原理是稀薄气体在反常辉光放电发生的等离子体在电场的效果下，对阴极靶材外表进行炮击，把靶材外表的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有必定的动能，沿必定的方向射向基体外表，在基体表面构成镀层。溅射镀膜开

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浅析磁控溅射镀膜的优缺点

2020-07-21

真空镀膜工艺分为多种，包括有真空磁控溅射镀膜，蒸发镀以及光学离子镀。现在主要来讲讲磁控溅射镀膜的原理以及优缺点是什么，让大家对这个电镀工艺有所了解，对产品电镀的选用工艺有所帮助。首先，真空磁控溅射镀膜通常应用在金属产品上面，原理为在电场作用

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你知道磁控溅射系统的原理是什么？

浅析磁控溅射镀膜的优缺点