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JGP-560型双室磁控溅射
分类:
磁控溅射
产品编号:1594717913
浏览次数:2909
关键词:
双室磁控溅射
双室溅射
双室磁控
设备用途:JGP-560型双室磁控溅射系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。设备组成:主要由主溅射真空室、磁控溅射靶、基
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