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磁控溅射主要用途有哪些?
2021-08-03
控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是
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溅射镀膜机的功能和原理
2021-04-22
溅射镀膜机的基本原理是在电场和交变磁场作用下,在ar-02气体中利用等离子体对目标表面进行加速高能粒子的轰击。能量交换后,目标表面上的原子从原晶格中逸出,转移到基底表面形成薄膜。该溅射机具有成膜速度高、衬底温度低、附着力好等特点,可实现大面
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