苏州单室离子束镀膜

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单室离子束镀膜设备

设备用途：

单室离子束镀膜设备系统为高真空多功能离子束沉积系统，系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

设备组成：

系统主要由沉积室、考夫曼溅射离子源、考夫曼清洗辅助离子源、样品台、样品加热装置、膜厚监测系统、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。

技术指标：

1、极限真空度：≤8.0×10-5Pa (经烘烤除气后)；

2、系统真空检漏漏率：≤5.0×10-8Pa.L/S；停机12小时≤5Pa.

3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，45分钟可达到6.6×10-4Pa；

4、系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成。