磁控溅射镀膜技术发展趋势

2021-10-09 09:45:39

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等离子体溅射的基本过程是负极的靶材在位于其上的等离子体中的载能离子作用下，靶材原子从靶材溅射出来，然后在衬底上凝聚形成薄膜；在此过程中靶材表面同时发射二次电子，这些电子在保持等离子体稳定存在方面具有关键作用。溅射技术的出现和应用已经经历了许多阶段，起初，只是简单的二极、三极放电溅射沉积;经过30多年的发展，磁控溅射技术已经发展成为制备超硬、耐磨、低摩擦系数、耐蚀、装饰以及光学、电学等功能性薄膜的一种不可替代的方法。脉冲磁控溅射技术是该领域的另一项重大进展。

磁控溅射

磁控溅射技术已经在我国的建材、装饰、光学、防腐蚀、工磨具强化等领域得到比较广泛的应用，利用磁控溅射技术进行光电、光热、磁学、超导、介质、催化等功能薄膜制备是当前研究的热点。但是，关于非平衡磁控溅射技术尤其是新型沉积工艺，国内了解、研究的单位还很少。防腐蚀、高硬度薄膜在提高石油机械的性能、寿命等方面能够发挥重要作用，低摩擦系数、润滑、防泥包、催化、光学等功能薄膜应用于石化行业时有望大幅度提高工作效率、产品品质以及环保、安全性等。伴随新型磁控溅射技术及工艺的发展、应用，石油、化工行业对提高生产效率、环保、安全性等需求的增加，磁控溅射技术对石油、化工领域的重要性将不断加大。但是，目前我国石化行业对磁控溅射技术尚缺乏足够的了解、应用，也没有从事该方面工作的专门机构。为此，呼吁相关方面应加强对磁控溅射技术的支持。

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