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磁控溅射镀膜技术的发展及应用
溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层可控性和重复性好等优点，而且任何物质都可以进行溅射，因而近年来发展迅速，应用广泛。
溅射方法
溅射技术的成膜方法较多，典型方法有直流二极溅射、三极溅射与磁控溅射等。
溅射镀膜技术的应用
1. 制备薄膜磁头的耐磨损氧化膜
硬盘磁头进行读写操作时与硬盘表面产生滑动摩擦，为了减小摩擦力及提高磁头寿命，目前磁头正向薄膜化方向发展。
2. 制备硬质薄膜
目前广泛使用的硬化膜是水溶液电镀铬。电镀会使钢发生氢脆，而且电镀速度慢，造成环境污染。
3. 制备切削刀具和模具的超硬膜
采用普通化学气相沉积技术制备等超硬镀层，温度要在1000 ℃ 左右，这已经超过了高速钢的回火温度，对于硬质合金来说还可能使镀层晶粒长大。
4. 制备固体润滑膜
固体润滑膜薄膜已成功应用于真空工业设备、原子能设备以及航空航天领域，对于工作在高温环境的机械设备也是毕不可少的。
5. 制备光学薄膜
溅射法是目前工业生成中制备光学薄膜的一种主要的工艺 。近年来，光通信，显示技术等方面对光学薄膜的巨大需求，刺激了将该技术用于光学薄膜工业化生产的研究。
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